滤光片镀膜的程序及流程

滤光片在越来越多的光学领域中起到了相当重要的作用，但是我们经常使用的滤光片是怎么镀膜，怎么制作出滤光片成品的呢？下面小编为大家介绍一下。

滤光片基片用干净的布片和有机溶剂进行清洁处理。将镀膜机真空室内放气后，用吸尘器清理钟罩内部，在钼舟内填装待蒸发膜料，记录下各个舟的膜料名称。并在基片架上安放基片，勿使基片倾斜。落下钟罩，按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710Pa-´以后，依次对舟预熔，去除膜料中的气体。此时，应注意用挡板挡住膜料，以保证预熔中基片不被镀上。当真空度达到要求后，采用/4l极值发控制光学厚度的方法进行镀制，可以选择前面给出的两种膜系中的任意一个膜系镀膜，将控制波长放在632.8nm或其他波长。

首先在玻璃基片上镀制H层。随着膜层增厚，放大器指示的光电流将下降。当光电流数值刚刚开始回升时，立即将挡板挡上。然后，降电流换电极，镀L层。镀L层时，光电流随着膜厚增加而上升，达到极值时停止镀膜，重复以上步骤镀H层。当镀制光学厚度为/2l的间隔层时，厚度增加一倍 ，应在光电流上升再下降到极值时停止。以后几层同前几层一样控制，但变化规律相反。镀膜结束后，依镀膜机操作规程停止加热和抽真空。半小时后，方可对镀膜机真空室充气，取出所镀制的干涉滤光片。然后按操作规程再对镀膜机抽真空，以保持清洁，最后停机。

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