氟化镁镀膜

镀膜主要是为了减少反射，为了提高镜头的透光率和影像的质量。在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0.2%，这样可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。

氟化镁是镀膜材料的一种，氟化镁晶体(MgF2)属于四方晶系，熔点为1255℃，硬度高，机械性能好，化学性能稳定，不易潮解和腐蚀，光学性能方面其主要特点是在真空紫外波段具有较高的透过率(170nm透过率仍在80%以上)，被广泛应用于光纤通信，军工领域及各种光学元件。

氟化镁镀膜主要应用：在普通的钢化玻璃表面镀膜，从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能，同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜玻璃目前可主要用于太阳能电池组件，光热，建筑，汽车玻璃等领域。

氟化镁镀膜用蒸发法，通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发物质如金属，化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件如金属，陶瓷，塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发，蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米，膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量)，并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用把优质玻璃单面或双面进行工艺处理，使其与普通玻璃相比具有较低的反射比，使光的反射率降低到1%以下，普通玻璃在可见光范围内，它的单侧反射率约为4%，总的光谱反射率约为8%。

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