五氧化二钽特性介绍

五氧化二钽是常用的高折射率材料，分子量441.89，熔点1800℃，在10-2Pa 真空下的蒸发温度为1920℃，杂气排放量小，可用钽、钨舟、线圈加热蒸发，也可由钨钳埚加热蒸发，用电子束加热蒸发效果良好。

五氧化二钽化学特性稳定，可溶于熔融的硫酸氢钾和氢氟酸，但是不溶于水或其它酸，经X射线衍射分析，五氧化二钽原料为斜方晶系，经高温烧结成镀膜材料后转为三斜晶系和四方晶系的混晶。

五氧化二钽薄膜稳定且不易结晶，其透明区为0.3~10μm，折射率为n=2.25（λ=0.4μm），n=2.1（λ=0.55μm，Ts=250℃）。在可见到红外波段都是透明的，不管用电子枪蒸镀、磁控溅射法或是离子束溅射法所镀制，都比镀制二氧化钛要稳定。取五氧化二钽加7%wt的钽作为初始膜料时，镀膜更加稳定。根据电子枪加离子辅助镀膜及溅射镀膜（Ta靶）的经验，镀五氧化二钽比二氧化钛膜容易得到更小吸收及散射的薄膜，且薄膜的沉积速率也可以快些，堆积密度接近于1，因此常被用来与二氧化硅搭配镀低散射，低吸收的多层膜滤光片等。还可作为保护涂层，特别是在高温环境中的应用。