氧化铝的应用介绍

氧化铝，分子量101.96，密度3.97，熔点2045℃，沸点3500℃，在10-2Pa真空下的蒸发温度为1550℃。可用钨、钼舟加热蒸发，易分解为吸收膜。用电子束加热蒸发则不分解。其在230nm~2μm波长范围内为无吸收膜，在2.7μm~3.6μm范围内吸收很小。Al2O3薄膜的透明区为0.2~8μm。其折射率与基底温度有关，基底为室温时n=1.53~1.60（λ=550nm），基底为300℃时n=1.60~1.64（λ=550nm）。反应溅射制备的Al2O3薄膜在可见区的折射率为n=1.78。Al2O3薄膜的机械性能极强，甚至薄膜生长到微米厚也是足够牢固的。其不溶解于水，仅对酸稍有腐蚀。目前生产氧化铝薄膜所采用的方法是电子束蒸发、射频溅射、反应直流溅射或反应蒸发技术。

氧化铝是一种适用于紫外光谱分析的中折射率材料。氧化铝薄膜广泛地应用于半导体的阻挡层，光学以及微电子学等领域。可用于防反射涂料、介质镜、多层滤光片、干涉膜、保护膜等。

爱特斯光学自2007年开始生产三氧化二铝镀膜材料，主要有晶体颗粒和烧结压片两种，颜色分别为无色透明和白色，纯度为99.99%；常用的规格尺寸为晶体颗粒1-3mm，同时其他尺寸可根据客户的要求进行定制。