五氧化二铌-性能介绍 Nb2O5

五氧化二铌的折射率介于二氧化钛和五氧化二钽之间，在近紫外到红外波段都是透明的，可以采用溅射铌靶，或电子枪加离子辅助蒸镀五氧化二铌来获得堆积密度接近1的优良光学薄膜，不过其镀膜前的预熔非常重要。

五氧化二铌薄膜由于其独特的物理和化学性质如高折射率、大的光学带隙、很好的化学稳定性和抗腐蚀性能而被广泛地应用于现代技术的许多领域。由于五氧化二铌具有以上的特点,它被用于光学干涉滤波器、电化色薄膜和气体传感器等。

爱特斯光学自2007年开始生产五氧化二铌镀膜材料，分子式：Nb2O5，主要有烧结颗粒，纯度为99.99%，常用的规格尺寸为烧结颗粒1-3mm。