ITO在减反膜设计中的应用

ITO（氧化铟锡）透明导电膜属于N型氧缺陷型半导体材料，可见光部分的吸收小，且具有高可见光透过率、中远红外波段优良的红外反射性能及微波衰减性能。ITO透明导电薄膜因其出色的光电性能成为了光电器件应用领域非常重要的光学元件明。

TTO材料长期以来都是以单层膜的形式作为透明导电膜直接使用，但是其在可见光部分的平均透过率很低，一般都低于90%，剩余反射率就显得很高，影响了在显示和电磁屏蔽等方面的应用效果。如果能在可见光部分的透过率有突破性的提高，将会使TTO透明导电膜的应用更加广泛。

ITO材料通常作为透明导电膜单独使用，将其作为减反射膜系中的一层，能够在很大程度上增加ITO透明导电膜在可见光部分的透过率，解决了ITO透明导电膜在可见光透过率普遍较低的问题。使用低压反应离子镀方法制备了含有TTO材料的多层减反射膜,得到了可见光平均透过率为95.83%，最高透过率为97.26%，方块电阻在13.2-24.6Ω的透明导电膜。该减反射膜在很大程度上缓解了透明导电膜的导电性与透明性之间的矛盾，使ITO透明导电膜在其应用领域里具有更有益的实用价值和应用前景。