光学薄膜的专业术语

堆积密度

堆积密度P是指薄膜密度pf与同成份的块状材料密度pb之比而言，其值与膜的微观结构有关系。堆积密度与镀膜后折射率的稳定性有很大关系，堆积密度过小，则易被环境影响，例如会吸收水汽，而改变了折射率，甚至改变了化学成份，以下对堆积密度做个说明。

一般来讲，增加Ts可使得P值升高，在蒸镀过程中利用电子，离子及紫外线的撞击与照射有助于P值的提高，这些都是由于提高蒸镀原子的动能所致。

机械性质，硬度，附着力

薄膜应有良好的机械性质，因为使用中难免要擦拭。有些膜性较软，如硫化物，氟化物（基板加热的

MgF2膜除外），经不起擦拭，这是需要多镀一层保护膜，如氧化膜。金属膜一般说来也属软膜，亦需要加镀一层保护膜，例如在有Al，Au或Ag做成的反射镜上镀一层SiO2或MgF2或Al2O3来保护。有时可在基板上先预镀一层附着力较强的膜以增加附着力。例如氧化膜及MgF2于玻璃之附着力很好，ZnS与Ge基板附着力更好，都可用来当亲底膜。

光学薄膜的应力

膜层的应力会影响到它的牢固性。膜的应力分为两种，一种是膜本身结构造成，成为内应力，当膜成长中越长膜越厚堆积密度越小则呈现张应力。当堆积密度越来越大时呈现压应力。

另一种是热应力，即冷却后因薄膜与基板的膨胀系数不同而收缩程度不同，于是造成应力，尤其多层膜的问题更大。为使总应力减低，一般可取一层张应力，一层是压应力交互加叠（ZnS与Na3AlF6 搭配制多层膜为一常见的例子）。且两种材料的热膨胀系数接近，此方法是可使总应力降低到最小。但有时并非如此。一般镀后的退火，也有助于应力的降低。

一般的应力在膜层初长时为最高,随着镀膜加厚才渐渐降低。因此第一层膜与材料基板的匹配甚为重要。其结构，成份及其膨胀系数最好能与基板接近。